CVD金剛石/單晶碳化硅窗口光學(xué)反應(yīng)器
CVD金剛石/單晶碳化硅窗口光學(xué)反應(yīng)器適用于光催化氟化反應(yīng)、220nm以上光催化、激光光催化。
- 耐溫： -
- 耐壓： -
- 流量： -
- 單片持液量： -
總流速:0-10mL/min
最大壓力:窗戶(hù)材料厚度可定制
潤(rùn)濕部件:PFA/PEEK、SIC/cvd金剛石
工藝流體端口:1/4“UNF-28
可定制服務(wù):配備溫度結(jié)構(gòu)
適用工藝:光催化氟化反應(yīng)、220nm以上光催化、激光光催化